主要有兩類：
?、倩瘜W(xué)氧化，氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質(zhì)軟，具有良好的吸附性，可作為有機(jī)涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜；
②電化學(xué)氧化，氧化膜厚度約為5～20微米（硬質(zhì)陽極氧化膜厚度可達(dá)60～200微米），有較高硬度，良好的耐熱和絕緣性，抗蝕能力高于化學(xué)氧化膜，多孔，有很好的吸附能力。
1.鋁及鋁合金的化學(xué)氧化處理
鋁及鋁合金的化學(xué)氧化處理設(shè)備簡單，操作方便，生產(chǎn)效率高，不消耗電能，適用范圍廣，不受零件大小和形狀的限制。
鋁及鋁合金化學(xué)氧化的工藝按其溶液性質(zhì)可分為堿性氧化法和酸性氧化法兩大類。
按膜層性質(zhì)可分為:氧化物膜、磷酸鹽膜、鉻酸鹽膜、鉻酸－磷酸鹽膜。
<1>鋁及鋁合金堿性鉻酸鹽化學(xué)氧化溶液的配方及工藝條件如表7－4。
注：①配方1，2適用于純鋁，鋁鎂合金，鋁錳合金和鋁硅合金的化學(xué)氧化。膜層顏色為金黃色，但后二種合金上得到的氧化膜顏色較暗。堿性氧化液中得到的膜層較軟，耐蝕性較差，孔隙率較高，吸附性好，適于作為涂裝底層。
?、谂浞?中加入硅酸鈉，獲得的氧化膜為無色，硬度及耐蝕性略高，孔隙率及吸附性略低，在硅酸鈉的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%的溶液中封閉處理后可單獨(dú)作為防護(hù)層用，適合于含重金屬鋁合金氧化用。
?、酃ぜ?jīng)氧化處理后為提高耐蝕性，可在20g/L的CrO3溶液中，室溫下鈍化處理5～15s，然后在低于50℃溫度下烘干。
<2>鋁及鋁合金酸性鉻酸鹽化學(xué)氧化溶液配方及工藝條件如表7－5。
注：①配方1得到的氧化膜較薄，韌性好，耐蝕性好，適用于氧化后需變形的鋁及鋁合金，也可用于鑄鋁件的表面防護(hù)，氧化后不需要鈍化或填充處理。
②配方2溶液pH值為1.5～2.2,得到的氧化膜較厚，約1～3微米,致密性及耐蝕性都較好，氧化后零件尺寸無變化，氧化膜顏色為無色至淺藍(lán)色，適用于各種鋁及鋁合金氧化處理。在配方2溶液中氧化處理后零件應(yīng)立即用冷水清洗干凈，然后用重鉻酸鉀40～50g/L溶液填充處理（PH=4.5～6.5時(shí)用碳酸鈉調(diào)整），溫度90～95℃,時(shí)間5～10分鐘，清洗后在70℃烘干。
?、叟浞?溶液中得到的氧化膜為無色透明，厚度約0.3～0.5微米，膜層導(dǎo)電性好，主要用于變形的鋁制電器零件。
?、芘浞?適用于純鋁及防銹鋁及鑄鋁等合金。氧化膜很薄，導(dǎo)電性及耐蝕性好，硬度低，不耐磨，可以點(diǎn)焊或氬弧焊，但不能錫焊；主要用于要求有一定導(dǎo)電性能的鋁合金零件。
⑤配方5得到的氧化膜較薄，約0.5微米，導(dǎo)電性及耐蝕性好，孔隙少，可單獨(dú)作防護(hù)層用。
2 鋁和鋁合金的陽極氧化（電化學(xué)氧化處理）
鋁是比較活潑的金屬，標(biāo)準(zhǔn)電位-1.66v，在空氣中能自然形成一層厚度約為0.01～0.1微米的氧化膜，這層氧化膜是非晶態(tài)的，薄而多孔，耐蝕性差。但是，若將鋁及其合金置于適當(dāng)?shù)碾娊庖褐?，以鋁制品為陽極，在外加電流作用下，使其表面生成氧化膜，這種方法稱為陽極氧化。
通過選用不同類型、不同濃度的電解液，以及控制氧化時(shí)的工藝條件，可以獲得具有不同性質(zhì)、厚度約為幾十至幾百微米的陽極氧化膜，其耐蝕性，耐磨性和裝飾性等都有明顯改善和提高。
1.氧化膜的形成與生長
Al及鋁合金的陽極氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁及其合金進(jìn)行陽極氧化時(shí)，在陽極發(fā)生下列反應(yīng)：
H2O－2e ---> O + 2H
2Al+3O ---> Al2O3
在陰極發(fā)生下列反應(yīng)：
2H+ +2e ---> H2
同時(shí)酸對(duì)鋁和生成的氧化膜進(jìn)行化學(xué)溶解，其反應(yīng)為：
2Al + 6H+ ---> 2Al3+ +3H2
Al2O3 + 6H+ ---> 2Al3+ + 3H2O
氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。
第一段a（曲線ab段）：無孔層形成。通電剛開始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，稱為無孔層或阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出由零急劇增至最大值。
第一段b（曲線bc段）：多孔層形成。隨著氧化膜的生成，電解液對(duì)膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻，在膜最薄的地方將首先被溶解出空穴來，電解液就可以通過這些空穴到達(dá)鋁的新鮮表面，電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進(jìn)行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為最高值的10～15%），膜上出現(xiàn)多孔層。
第一段c（曲線cd段）：多孔層增厚。陽極氧化約20s后，鋁氧化電源電壓進(jìn)入比較平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí)，新的無孔層又在生長，也就是說氧化膜中無孔層的生成速度與溶解速度基本上達(dá)到了平衡，故無孔層的厚度不再增加，電壓變化也很小。但是，此時(shí)在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒有停止，他們?nèi)栽诓粩噙M(jìn)行著，結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。隨著氧化時(shí)間的延續(xù)，孔穴加深形成孔隙，具有孔隙的膜層逐漸加厚。當(dāng)膜生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，即使再延長氧化時(shí)間，氧化膜的厚度也不會(huì)再增加，此時(shí)應(yīng)停止陽極氧化過程。陽極氧化特性曲線與氧化膜生長過程如圖7－1所示。
圖7－1 陽極氧化特性曲線與氧化膜生長過程示意圖
2.鋁及鋁合金的陽極氧化工藝
鋁及其鋁合金陽極氧化的方法很多，常用的有硫酸陽極氧化、鉻酸陽極氧化、草酸陽極氧化、硬質(zhì)陽極氧化和瓷質(zhì)陽極氧化。
<1>硫酸陽極氧化：在稀硫酸電解液中通以直流和交流電對(duì)鋁及其合金進(jìn)行陽極氧化處理，可獲得5～20微米厚，吸附性較好的無色透明氧化膜。
硫酸陽極氧化工藝簡單，溶液穩(wěn)定，操作方便，允許雜質(zhì)含量范圍較寬，電能消耗少，成本低，且?guī)缀蹩梢赃m用于鋁及各種鋁合金的加工，所以在國內(nèi)已得到了廣泛的應(yīng)用。
表7－6為幾種典型的陽極氧化工藝：
影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有：
?、倭蛩釢舛龋和ǔ２捎?5%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強(qiáng)，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。
所以，用于防護(hù)，裝飾及純裝飾加工時(shí)，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。
②電解液溫度：電解液溫度對(duì)氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當(dāng)溫度為22～30℃時(shí)，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當(dāng)差；當(dāng)溫度大于30℃時(shí)，膜就變得疏松且不均勻，有時(shí)甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價(jià)值；當(dāng)溫度在10～20℃之間時(shí)，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強(qiáng)，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當(dāng)溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時(shí)，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化。
?、垭娏髅芏龋涸谝欢ㄏ薅葍?nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時(shí)間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會(huì)因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。
?、苎趸瘯r(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會(huì)逐漸降低，到最后不再增加。
?、輸嚢韬鸵苿?dòng)：可促使電解液對(duì)流,強(qiáng)化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會(huì)造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。
?、揠娊庖褐械碾s質(zhì)：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值,甚至?xí)怪萍l(fā)生腐蝕穿孔（Clˉ應(yīng)小于0.05g/L,Fˉ應(yīng)小于0.01g/L）；當(dāng)電解液中Al3+含量超過一定值時(shí)，往往使工件表面出現(xiàn)白點(diǎn)或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難（Al3+應(yīng)小于20g/L）；當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時(shí)，氧化膜上會(huì)出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn)；Si2+ 常以懸浮狀態(tài)存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。
?、咪X合金成分：一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。
<2>鉻酸陽極氧化：
鉻酸陽極氧化是指用5～10%的鉻酸電解液對(duì)鋁及其合金進(jìn)行陽極氧化的技術(shù)。用此法得到的氧化膜具有如下特點(diǎn):①較薄(與硫酸和草酸氧化膜比)，約2～5微米，可保持工件原有精度和粗糙度；②質(zhì)軟彈性高,幾乎沒有氣孔，耐蝕性強(qiáng)于硫酸陽極氧化膜；③不透明,顏色由灰白至深灰色,甚至彩虹色，故不易染色；④由于孔隙少,膜層不用封閉處理就可使用；⑤與有機(jī)物的結(jié)合力好,因此常用作油漆的底層；⑥與硫酸陽極氧化比,成本較高,使用受到一定限制。
表7－7是幾種鉻酸陽極氧化工藝：
<3>草酸陽極氧化：
草酸陽極氧化是用2%～10%的草酸電解液通以直流或交流電進(jìn)行的氧化工藝。
當(dāng)使用直流電進(jìn)行陽極氧化時(shí)，所得膜層硬度及抗蝕力不亞于H2SO4陽極氧化膜，而且由于草酸溶液對(duì)鋁及氧化膜的溶解度小，所以可得到比硫酸溶液中更厚的氧化膜層；若用交流電進(jìn)行氧化,可得較軟、彈性好的膜層。草酸陽極氧化的膜層一般為8～20微米，最厚可達(dá)60微米。
氧化過程中只要改變工藝條件(如草酸濃度,溫度,電流密度,波形等),便可得到銀白色、金黃色至棕色等裝飾性膜層,不需要再進(jìn)行染色處理。
草酸陽極氧化電解液對(duì)氯離子非常敏感，其質(zhì)量濃度超過0.04g/L膜層就會(huì)出現(xiàn)腐蝕斑點(diǎn)。三價(jià)鋁離子的質(zhì)量濃度也不允許超過3g/L。
但草酸陽極氧化成本較高,耗能多(因?yàn)椴菟犭娊庖旱碾娮璞攘蛩?鉻酸大),溶液有毒性,且電解液穩(wěn)定性差。草酸陽極氧化幾種工藝如表7－8所示。
<4>瓷質(zhì)陽極氧化：
在電解液中加入某些物質(zhì)，使其在形成氧化膜的同時(shí)被吸附在膜層中，從而獲得光滑，有光澤,均勻不透明的類似瓷釉和搪瓷色澤的氧化膜，稱“瓷質(zhì)陽極氧化膜”或“瓷質(zhì)氧化膜”。這種氧化膜彈性好，抗蝕性好，染色以后可得到具有塑料感的外觀。所得膜厚約6～25微米。
下面是瓷質(zhì)氧化的兩種方法：
?、僭诹蛩峄虿菟崛芤褐屑尤肽承┫∮薪饘僭兀ㄈ玮?，釷等）的鹽類：氧化過程中，由于這些鹽類的水解作用產(chǎn)生發(fā)色物質(zhì)沉積于氧化膜孔隙中，形成類似瓷釉的膜層，硬度高，可以保持零件的高精度和高光潔程度，但成本昂貴，溶液使用周期短，工藝條件要求嚴(yán)。
②以鉻酐和硼酸的混合液為陽極氧化液:成分簡單，成本低，氧化膜彈性好，但硬度較前一種低，可用于一般裝飾性瓷質(zhì)氧化表面處理。瓷質(zhì)陽極氧化溶液及工藝條件如表7－9所示。
注：陰極材料可用純鋁，鉛板或不銹鋼板。
在氧化溶液中，各種組分的變化將對(duì)氧化膜的色澤起決定作用:如隨鉻酐的升高,膜層顏色向不透明灰色方向轉(zhuǎn)化；隨硼酸升高,膜層顏色向乳白色方向轉(zhuǎn)化；而隨草酸的升高,膜層顏色向黃色方向轉(zhuǎn)化。
3.氧化膜的封閉處理
由于表面氧化膜具有較高的孔隙率和吸附性能，它很容易受到污染，所以陽極氧化后，應(yīng)對(duì)膜層進(jìn)行封閉處理，以提高膜層的耐蝕性，耐磨性以及絕緣性。常用的封閉方法有：
<1>沸水和蒸氣封閉法：
其原理是：在較高溫度下無水氧化鋁的水化作用：
Al2O3 + nH2O ---> Al2O3·nH2O
當(dāng)密度為3.42的γ-AL2O3水化為一水化合物時(shí)，氧化物體積增加33%，而當(dāng)它水化為三水化合物時(shí)，則氧化物體積增加310%，因此，當(dāng)將氧化好的零件置于熱水中時(shí)，阻擋層和多孔層內(nèi)壁的氧化膜層首先被水化，經(jīng)過一段時(shí)間后，孔底逐漸被水化膜所封閉，當(dāng)整個(gè)孔穴被全部封閉時(shí)，孔隙的水就停止循環(huán)，膜層的表面層繼續(xù)進(jìn)行水化作用，直到整個(gè)孔隙的口部被水化膜堵塞為止。如采用蒸氣，則可更有效地封閉所有孔隙，但蒸氣法所用設(shè)備及成本都較沸水法高，除非特殊要求，應(yīng)盡可能使用沸水法。
<2>重鉻酸鹽封閉法：此法適宜于封閉硫酸溶液中陽極氧化的膜層及化學(xué)氧化的膜層。用本法處理后的氧化膜顯黃色，它的抗蝕性高，但不適用于裝飾性使用。
其原理是：在較高溫度下，氧化膜和重鉻酸鹽產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物堿式鉻酸鋁及重鉻酸鋁沉淀于膜孔中，同時(shí)熱溶液使氧化膜層表面產(chǎn)生水化，加強(qiáng)了封閉作用。故可認(rèn)為是填充及水化雙重封閉作用。
通常使用的封閉溶液是5～10%的重鉻酸鹽水溶液，操作溫度為90～95℃，封閉時(shí)間為30分鐘，溶液中不得有氯化物或硫酸鹽。
<3>水解鹽封閉法：
原理：鋯鹽、鎳鹽的極稀溶液被氧化膜吸附后，即發(fā)生如下的水解反應(yīng)：
Ni2++2H2O ---> Ni(OH)2 +2H+
Co2++2H2O ---> Co(OH)2 +2H+
生成的氫氧化鎳或氫氧化鈷沉積在氧化膜的微孔中，而將孔封閉。因?yàn)樯倭康臍溲趸嚮驓溲趸拵缀跏菬o色的，所以它特別適用于已染色的氧化膜的封閉，不會(huì)影響制品的色澤，而且還會(huì)和有機(jī)染料形成絡(luò)合物，從而增加顏色的耐曬性。
<4>填充封閉法：
除上面所述的封閉方法外，陽極氧化膜還可以采用有機(jī)物質(zhì)，如透明清漆、熔融石蠟、各種樹脂和干性油等進(jìn)行封閉。
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